表征光活性化合物旋光性能的物理量，用光学纯度百分率或对映体过量百分数表示（见）。光学纯度百分率样品的比旋光度对纯光学异构体比旋光度的百分率。其计算公式为： 光学纯度 例如，若一个纯的光学异构体比旋光度为（+）50°，而另一个不纯的光学异构体，比旋光度为（+）30°，那么，此不纯光学异构体的光学纯度即为60%。一种纯的光学异构体光学纯度为100%，外消旋体的光学纯度为零。
表征光活性化合物旋光性能的物理量，用光学纯度百分率或对映体过量百分数表示（见）。
样品的比旋光度对纯光学异构体比旋光度的百分率。其计算公式为：
光学纯度
例如，若一个纯的光学异构体比旋光度为（+）50°，而另一个不纯的光学异构体，比旋光度为（+）30°，那么，此不纯光学异构体的光学纯度即为60%。一种纯的光学异构体光学纯度为100%，外消旋体的光学纯度为零。
根据上式，首先需要获得纯光学异构体的比旋光度（见）。确证样品是否为纯的光学异构体，最简单的方法是用重结晶法。样品经过多次重结晶后，不但熔点不再改变，而且比旋光度也达到最大值而不再改变。但是这个方法往往会出现错误判断，因此常用对映体过量百分数来代替上述定义的光学纯度。
一种对映体对另一种对映体超过部分的百分率，又称%e.e.值（percent enantiometic excess），常是衡量不对称合成效率高低的标准。其计算方法如下式：
光学纯度
式中 [A]和[B]分别为数量较多和数量较少的两种对映体的量。例如其中一种对映体含量[A]为75%，另一种对映体含量[B]为25%，其%e.e.即为50%。
当旋光度与对映体的含量成正比，而且对映体之间没有明显的相互作用时：
o.p.=%e.e.
但在某些情况下，o.p.不是%e.e.值的线性函数时：
o.p.≠%e.e.
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